主要用途

　　平面研磨機泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。

　　工作原理

　　平面研磨機為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。產(chǎn)生磨削作用的磨料顆粒有兩種來源，一種來自于不斷外加(常稱為游離磨料);另一種方法是將磨料顆粒固定在研磨盤中 (常稱為固著磨料)。平面研磨機產(chǎn)品